Optimal reduction of a monitoring grid for SiO2 deposition surface over a wafer for semiconductor devices

Diego Zappa, Riccardo Borgoni, Luigi Radaelli, Valeria Tritto

Risultato della ricerca: Contributo in libroContributo a convegno

Lingua originaleEnglish
Titolo della pubblicazione ospiteSIS2010 Proceedings
Pagine1-10
Numero di pagine10
Stato di pubblicazionePubblicato - 2010
EventoSIS 2010 - Padova
Durata: 16 giu 201018 giu 2010

Convegno

ConvegnoSIS 2010
CittàPadova
Periodo16/6/1018/6/10

Keywords

  • Spatial processes
  • kriging methods
  • simulated annealing

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