LogVariance modeling of wafer surface

Diego Zappa; Riccardo Borgoni; Luigi Radaelli; Valeria Tritto

LogVariance modeling of wafer surface

Diego Zappa
, Riccardo Borgoni
, Luigi Radaelli
, Valeria Tritto

Risultato della ricerca: Contributo in libro › Contributo a conferenza

Abstract

N/A

Lingua originale	Inglese
Titolo della pubblicazione ospite	Statistical Methods applied in microelectronics
Pagine	1
Numero di pagine	1
Stato di pubblicazione	Pubblicato - 2011
Evento	Statistical Methods applied in microelectronics - Itala Durata: 13 giu 2011 → 13 giu 2011

Workshop

Workshop	Statistical Methods applied in microelectronics
Città	Itala
Periodo	13/6/11 → 13/6/11

Keywords

logvariance model
spatial sampling

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TY - GEN

T1 - LogVariance modeling of wafer surface

AU - Zappa, Diego

AU - Borgoni, Riccardo

AU - Radaelli, Luigi

AU - Tritto, Valeria

PY - 2011

Y1 - 2011

N2 - N/A

AB - N/A

KW - logvariance model

KW - spatial sampling

KW - logvariance model

KW - spatial sampling

UR - http://hdl.handle.net/10807/12430

M3 - Conference contribution

SP - 1

BT - Statistical Methods applied in microelectronics

T2 - Statistical Methods applied in microelectronics

Y2 - 13 June 2011 through 13 June 2011

ER -

LogVariance modeling of wafer surface

Abstract

Workshop

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